卓胜微纳米压印光刻技术在 MAX-SAW 滤波器制造中的应用主要包括以下方面：

• 高精度电极图案制作：纳米压印光刻技术能够制作出高精度的叉指换能器（IDT）电极图案，其精度可达到纳米量级，可实现更小的电极条宽和间隙宽度，从而提高滤波器的工作频率和性能.
• 改善滤波器性能：该技术可用于制造具有特殊结构的压电层或衬底材料，通过在压电层和功能层表面以下增加额外的氧化埋层，构成 POI 衬底结构，从而改善频率温度系数和品质因数，降低体声波泄露，提高能源效率.
• 降低生产成本：纳米压印光刻技术具有高通量、低成本的特点，适合大规模生产。它可以在较短的时间内制造出大量的滤波器芯片，从而降低生产成本，提高生产效率.
• 集成多层结构：利用纳米压印光刻技术的高精度和可控性，可以将不同功能的材料或器件集成在同一芯片上，实现多层结构的异质集成，进一步提高滤波器的性能和集成度，减小滤波器的尺寸.