华润微与英飞凌的关键技术参数做一份对比分析
深圳市星际芯城科技有限公司
发表:2026-02-23 20:29:33 阅读:5

以下为华润微与英飞凌在MOSFET、IGBT、SiC MOSFET三大核心功率器件的关键技术参数对比,聚焦性能、工艺、可靠性与量产能力,便于直观判断技术差距与定位。

一、MOSFET(硅基):中低压 / 高压性能对比

1. 中低压 SGT MOSFET(40V–100V)

  • 华润微
  • 代表:SGT G6(12 英寸量产)
  • Rds (on):80V/100A 约0.38mΩ(@10V)
  • 优值 FOM(Rds (on)×Qg):约120–150 mΩ·nC
  • 工艺:沟槽栅 + 深隔离 + 外延优化
  • 车规:AEC-Q101 认证覆盖
  • 良率 / 一致性:晶圆级参数分散度 **±8%**
  • 英飞凌
  • 代表:OptiMOS™ 6(12 英寸量产)
  • Rds (on):80V/100A 约0.28mΩ(@10V)
  • 优值 FOM:约80–100 mΩ·nC
  • 工艺:超精细沟槽 + 多晶硅栅 + 高纯度外延
  • 车规:全系列 AEC-Q101,车规级可靠性标准
  • 良率 / 一致性:±5% 以内,批量一致性更优
  • 差距:华润微 Rds (on) 高约25%,FOM 落后约30%;但良率与一致性已接近国际二线,性价比突出。

2. 高压超结 MOSFET(600V–1200V)

  • 华润微
  • 代表:SJ G4(12 英寸量产)
  • Rds (on):600V/50A 约45mΩ
  • 优值 FOM:约350–400 mΩ·nC
  • 工艺:多层外延 + 电荷平衡优化
  • 英飞凌
  • 代表:CoolMOS™ C7/G7
  • Rds (on):600V/50A 约35mΩ
  • 优值 FOM:约250–300 mΩ·nC
  • 工艺:超结结构 + 元胞微缩 + 背面优化
  • 差距:华润微导通电阻高约25%,FOM 落后约30%;在光伏 / 充电桩等场景已实现国产替代。

二、IGBT:工业 / 车规级性能对比

1. 1200V IGBT(Trench+FS 结构)

  • 华润微
  • 代表:IGBT G7(12 英寸量产)
  • Vce (sat):1200V/120A 约1.65V(@25°C)
  • 开关损耗(Eon+Eoff):约1.8mJ(@120A/800V)
  • 工作结温:150°C
  • 车规:AEC-Q101 认证,批量上车
  • 工艺:微沟槽 + 场终止 + 薄晶圆
  • 英飞凌
  • 代表:TRENCHSTOP™ IGBT7
  • Vce (sat):1200V/120A 约1.50V(@25°C)
  • 开关损耗:约1.5mJ(@120A/800V)
  • 工作结温:175°C
  • 车规:全系列车规认证,全球车规 IGBT 龙头
  • 工艺:沟槽栅 + 微元胞 + 超薄晶圆 + 背面注入
  • 差距:华润微 Vce (sat) 高约10%,开关损耗高约20%;最高结温差25°C,高温可靠性与寿命仍有差距。

三、SiC MOSFET:第三代半导体核心对比

1. 1200V SiC MOSFET(沟槽型)

  • 华润微
  • 代表:SiC MOS G4(8 英寸量产,12 英寸验证)
  • Rds (on):1200V/50A 约20mΩ(@25°C)
  • 优值 FOM:约150–180 mΩ·nC
  • 工作结温:175°C
  • 车规:AEC-Q101 认证,主驱模块批量装车
  • 工艺:沟槽栅 + 界面优化 + JBS 二极管集成
  • 英飞凌
  • 代表:CoolSiC™ G2(12 英寸量产)
  • Rds (on):1200V/50A 约13mΩ(@25°C)
  • 优值 FOM:约90–110 mΩ·nC
  • 工作结温:200°C(G2 提升至 200°C)
  • 车规:全系列车规认证,800V 平台全球市占第一
  • 工艺:非对称沟槽 + 特殊晶面 + 低界面态 + 扩散焊封装
  • 差距:华润微 Rds (on) 高约50%,FOM 落后约60%;最高结温差25°C,高温可靠性与封装工艺差距明显。

2. 650V SiC MOSFET(消费 / 工业)

  • 华润微:650V G4 量产,Rds (on) 约10–15mΩ,车规认证中
  • 英飞凌:CoolSiC™ G2 650V,Rds (on) 约6–8mΩ,全系列车规,开关频率支持100kHz+

四、工艺与制造能力对比

  • 华润微
  • 晶圆:8 英寸 + 12 英寸(重庆 / 深圳),功率器件专用线
  • 工艺节点:SGT G6、SJ G4、IGBT G7、SiC G4(12 英寸量产)
  • 掩模:自主掩模厂,40nm 先进掩模产线建设中
  • 封装:面板级 PLP、SiP、车规模块,热阻 Rth (j-c) 约0.4–0.6K/W
  • 良率:功率器件良率85%–90%,SiC 约75%–80%
  • 英飞凌
  • 晶圆:12 英寸为主,全球多基地(德 / 美 / 亚)
  • 工艺节点:OptiMOS 6、CoolMOS G7、IGBT7、CoolSiC G2(12 英寸量产)
  • 掩模:全球顶尖掩模供应链,40nm 以下成熟
  • 封装:.XT 扩散焊、Direct Bonded Copper(DBC),热阻 Rth (j-c) 约0.2–0.3K/W
  • 良率:功率器件良率95%+,SiC 约85%–90%
  • 差距:华润微在12 英寸规模化、良率、封装热阻、高端工艺成熟度上仍落后 1–2 代;但 IDM 全链协同、本土定制化响应速度占优。

五、可靠性与车规能力对比

  • 华润微
  • 车规认证:AEC-Q101 覆盖 MOSFET/IGBT/SiC,OBC / 主驱模块批量上车
  • 可靠性:HTRB 1000 小时,功率循环寿命 **>10 万次 **
  • 标准:符合 IATF 16949,车规级测试体系完善
  • 英飞凌
  • 车规认证:全系列 AEC-Q101/102/103,车规级标准制定者
  • 可靠性:HTRB 2000 小时,功率循环寿命 **>50 万次 **
  • 标准:IATF 16949 + 汽车级零缺陷体系,全球车规供应链标杆
  • 差距:华润微车规认证覆盖与批量验证已起步,但长期可靠性、寿命、零缺陷能力与英飞凌仍有显著差距。

六、综合判断:差距与定位

  1. 硅基器件:华润微 SGT G6/SJ G4/IGBT G7 性能达国际二线,Rds (on)/Vce (sat) 落后约10%–25%,FOM 落后约20%–30%;但良率、一致性、成本已具备国产替代竞争力。
  2. SiC 器件:华润微 G4 与英飞凌 G2 差距约1.5 代,Rds (on) 高约50%,FOM 落后约60%,结温差25°C;但已实现车规批量装车,是国内 SiC IDM 龙头。
  3. 工艺与制造:英飞凌在12 英寸规模化、良率、封装热阻、高端工艺上领先;华润微依托IDM 全链 + 本土产能 + 定制化,在性价比与响应速度上形成差异化优势。
  4. 应用定位:英飞凌主导高端车规、超高压、大功率、长寿命场景;华润微聚焦中高端工业、车规辅助 / 主驱、新能源、数据中心,以国产替代 + 性价比快速渗透。

七、总结

华润微已构建硅基 + SiC+GaN全功率技术矩阵,核心器件性能达国内领先、国际对标,与英飞凌的技术代差从 3–5 代缩小至1–1.5 代。在中低压 MOS、中高压 IGBT、车规 SiC等领域已实现批量替代;但在极限性能、高温可靠性、12 英寸规模化、高端封装上仍需持续追赶。


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